电子级聚合物非常适合当今具有挑战性的光刻应用

DUV和193NM光致抗蚀剂性能从聚合物开始，杜邦电子级聚合物继续改善现有的聚合物制造，分离和评价技术。

我们的合成和隔离专业知识使电子聚合物能够创建广泛的聚合物，是当今具有挑战性的光刻应用的理想选择，从乙酰氧基苯乙烯单体(ASM)到高组分均匀性(HCU)聚合物。

ASM

乙酰氧基苯乙烯单体（ASM）是用于产生杜邦电子级聚合物的基本单体。与其他反应性单体组合使用或用作均聚物产生的唯一组分，ASM是一种高纯度反应性单体，其容易经历自由基聚合，并能够在宽的宽度下产生聚（对乙酰氧基）苯乙烯（PAS）聚合物的产生分子量范围。我们非常关心和努力，以保持这一关键材料的最高质量。

Co-和Ter-Polymers通过定制制造

杜邦在自由基聚合化学方面拥有深厚的专业知识。定制的树脂由各种各样的单体与ASM结合而成，满足了对透明度、多分散性、酸扩散特性、溶解速率、热重(Tg)和其他对半导体器件制造关键层所用光刻胶性能至关重要的因素日益增长的需求。