让我们谈谈我们的工厂技术专家如何帮助您的光刻项目。除了提供光刻材料如有先进的光刻成像和计量设备,我们可以帮助您的工作流程的其他方面。可用的服务包括测量,缺陷测试,工艺设计或提供图案晶片。
我们的Fabs拥有G-Line和I-Line Liptography的一系列工具到ARF浸入式光刻,并更好地支持客户和半导体行业,我们现在能够使这些用于定制或批量测试。测试可以一次性或长期作为经常性事件完成。我们还有一套完整的计量工具,可以与在我们的设施或从现场成像的晶片上执行的平版影像一起使用。我们的专家也可以帮助开发新的平版过程,我们可以作为过程设计或项目的一部分提供光刻材料(如光致抗蚀剂,防反射涂层和辅助物)。
继续阅读以查看平版图像的类型可用的和计量工具,以及我们可以提供的服务示例。即使在这里未列出,请随时与我们联系我们。
以下示例显示了我们可以使用我们的设备的工作类型:
这些示例代表我们可以提供的服务类型的小型采样。光刻成像和计量通常是根据项目需求所确定的定制设计,因此请随时与我们联系以讨论您的特定项目需求。
技术 |
晶片尺寸(mm) |
能力 |
---|---|---|
ARF(193nm浸没) |
300 |
外套和模式 |
ARF(193nm干) |
200. |
外套和模式 |
KRF(248nm) |
200. |
外套和模式 |
I-LINE(365nm) |
200. |
外套和模式 |
I-LINE(365nm) |
100. |
外套和洪水曝光 |
宽带 |
200. |
外套和模式 |
宽带 |
100. |
外套和洪水曝光 |
G-LINE(436nm) |
100. |
外套和模式 |
计量 |
晶片尺寸(mm) |
描述 |
---|---|---|
薄膜测量 |
100/200/300. |
光学参数 |
临界维扫描 |
200/300 |
CD测量 |
缺陷 |
200/300 |
薄膜缺陷检测工具, |
扫描电子显微镜 |
全部 |
扫描电子显微镜, |
扫描电子显微镜 |
100/150/200 |
上下,X射线, |
能力 |
晶片尺寸(mm) |
工具集 |
---|---|---|
溶解率 |
100/150 |
单点DRM激光器,GCA,DNS |
光密度 |
100. |
UV-Vis,GCA |
莳萝 |
10. |
洪水曝光工具,UV-Vis,GCA |
我们提供缺陷测试或图案化晶片等服务