光刻材料和服务

抗反射剂和功能性子层

抗反射剂和功能性子层

解决先进光刻技术的挑战

杜邦的抗反射涂层和功能亚层产品包括底部抗反射涂层(barc)、硅抗反射涂层(siarc)和自旋碳基抗反射涂层(soc)。它们旨在解决当今先进技术节点和3D结构的关键尺寸所带来的先进光刻挑战,提高吞吐量,并使分辨率提高到20nm线距。

  • 反光涂层和子层 - Barcs和纱线和SoC - 用于通过加宽和改善过程和反射率窗口来提高光刻的有效性:

    • Barcs在曝光步骤中减少反射光,从而提高了抗蚀剂的反射率控制。它们还可以防止由湿法造成的衬底损伤。
    • 纱线材料在抗蚀剂下起作用,以控制光学成像,同时也用作管理蚀刻图案的蚀刻屏障。
    • SoC充当平面化材料。它们创建了一个有助于控制蚀刻性能的高碳层。

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