电子解决方案
光刻材料和服务
杜邦的抗反射涂层和功能亚层产品包括底部抗反射涂层(barc)、硅抗反射涂层(siarc)和自旋碳基抗反射涂层(soc)。它们旨在解决当今先进技术节点和3D结构的关键尺寸所带来的先进光刻挑战,提高吞吐量,并使分辨率提高到20nm线距。
反光涂层和子层 - Barcs和纱线和SoC - 用于通过加宽和改善过程和反射率窗口来提高光刻的有效性:
通过加宽和改善工艺和反射率窗口,防反射涂层和子层提高光刻的有效性。
与光致抗蚀剂一起使用,杜邦的高级外涂层材料旨在防止缺陷和改进光刻过程窗口,实现更精细的特征模式。
杜邦的强大,生产经过验证的光致致抗蚀剂产品系列提供了满足几代光刻工艺要求的材料选项。
杜邦的根源在其生产验证的辅助光刻产品系列中涌现。从开发人员,去除剂和其他增强化学品,我们支持总光刻解决方案。
DUV和193NM光致抗蚀剂性能从聚合物开始,杜邦电子级聚合物继续改善现有的聚合物制造,分离和评价技术。
我们提供缺陷测试或图案化晶片等服务
我们喜欢谈论我们的电子解决方案如何建立业务,使产品商业化,并解决我们这个时代更大的挑战。
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