光致抗蚀剂

符合代理的光刻工艺要求

Dupont提供了一种强大的生产经过验证的光致抗蚀剂产品系列，其材料选项可满足从一代光刻工艺的要求，从365nm下降到13.5nm波长，并达到280nm至20nm的曝光。

为了实现更小的技术节点，光刻胶必须提供更高、更好的分辨率和更宽的聚焦深度，同时减少缺陷。同时，遗留节点依赖于可靠的公式。从我们的i-line/g-line，到我们的193和KrF产品系列，杜邦都有光刻胶来满足您的需求。

当与杜邦的蚀刻，开发和辅助产品结合使用时，您可以获得全面的材料解决方案，以支持您的半导体制造工艺。

我们广泛的投资组合还允许我们定制光致抗蚀剂以满足特定的客户规格。

I-Line产品

我们的传统i-Line (365nm)光刻胶可以支持不同的厚度要求，同时实现高分辨率和低缺陷。

相关产品:

• SPR™3光致抗蚀剂
  
• SPR™700光刻胶
  
• MCPR™光致抗蚀剂

DUV产品

我们的DUV（248nm）光刻胶显示出优异的产品性能，对于各种应用，具有低缺陷。

• UV™正音质抗蚀剂支持暴露和早期发展。它实现了高分辨率以适应更小的图案尺寸。
• UVN™负色调抗蚀剂，其中曝光是反向开发的。无渣，UVN™抗蚀剂是深沟图案的最佳解决方案。
• SL™抗蚀剂是我们的低温抗蚀剂，在100℃以下烘烤。它具有高分辨率，适用于小尺寸的图案。

史诗™光阻

EPIC™光致抗蚀剂是193系列抗蚀剂，广泛用于193个工艺，其中没有面漆。Dupont的Epic™IM抗蚀剂专为浸没式设计而设计的独特环境，其中镜头和晶片之间的水能够暴露更细的图案。

• 防止抗蚀剂浸入水中渗透抗蚀剂膜的部件
• 在水和抗蚀剂之间创建一层阻隔层，使阻隔层不再需要，为客户节省时间和金钱