陶氏很荣幸地宣布，陶氏电子材料研究员詹姆斯·萨克雷博士被任命为SPIE院士，国际光学与光子学学会．

SPIE Fellow的称号是一项显著的行业成就，标志着其在新兴的光基技术方面的成就。SPIE的高级成员在被提名之前会根据几个标准进行评估。这包括他们在光学、光子学或成像领域的个人科学和技术贡献，以及他们在SPIE和科学界的参与。

在过去的十年中，Jim Thackeray在光刻胶、抗反射涂层和紫外光(UV)、深紫外光和极紫外光(EUV)光刻材料的开发方面取得了许多成就。Thackeray博士目前正参与开发用于20纳米以下节点的下一代光刻胶材料。

萨克雷说:“光刻材料的创新对摩尔定律的发展至关重要。”“我很自豪能对目前世界各地半导体制造商使用的成像材料的设计做出贡献。”

萨克雷博士拥有75项美国专利，其中包括许多与开发用于光致抗蚀剂的共聚物以及使用这些材料形成电子器件的方法有关的专利。他继续创新，其中六项专利于2017年刚刚发布。作为SPIE的成员，萨克雷20年来积极参与了SPIE高级光刻会议，参与了图形材料和工艺的进步会议委员会，并在数十次SPIE会议上展示了研究成果。

萨克雷说:“能被邀请加入众多有才华的SPIE研究员行列，我感到非常荣幸。“SPIE社区继续丰富我的工作和职业生涯，SPIE Advanced Lithography等会议为讨论前沿研究和材料挑战提供了巨大的机会。我期待在未来的岁月里继续参与。”

Thackeray分享了他在设计支持EUV光刻的材料方面的研发经验，他为陶氏的Litho UniversitySM系列开发了两个视频。在这些简短的教育视频中，他讨论了与EUV抗蚀剂技术相关的挑战，以及在EUV光刻中临界尺寸均匀性和灵敏度之间的权衡。

在加州圣何塞举行的2017 SPIE Advanced Lithography大会全体会议上，Thackeray被欢迎为SPIE的新研究员。今年，有71名新的研究员被宣布，并将在全年的活动中受到表彰。的新奖学金学生的完整名单可以在SPIE网站上找到。