Bellingham，洗涤。 - 2018年2月22日

Peter Trefonas，Ph.D.，Corporate Clow陶氏电子材料，最近被选为SPIE的研究员，对设计成果进行制造和紧凑的造型。

国际光学与光子学学会(SPIE)将在今年提拔73名新院士，以表彰他们在光学、光子学和成像等多学科领域的重大科学和技术贡献。SPIE研究员的荣誉来自于他们的技术成就，以及他们对普通光学社区特别是SPIE的服务。

Trefonas已经证明了自己是在先进的光刻技术的领导者，在先进的光刻技术关键领域众多高被引和开拓的论文。他促成了抵抗化学机制，如polyphotolysis，基于第一原则非线性发展和溶出率模型的机制的基础研究。他还贡献了渗流和反应扩散机制的论文。Trefonas撰写一些第一篇论文对散粒噪声和随机效应，以及对发展的分形分析的第一篇论文，并在光刻技术的信息理论的第一篇论文。他是合着者上的简单的方法来测量光致酸的量子效率，并有助于在极紫外（EUV）随机指标和随机发展模型的一个突出的纸张。他还出版确定性自下而上/自上而下的材料设计开创性工作。

Trefonas通过出版的文献和他在技术会议中的作用，为全球光学社区提供了广泛的服务。他撰写了ITRS半导体路线图的重要部分，致力于新兴材料的内容。他组织并主持了关于材料研究会的新兴展示材料的会议，担任IEEE的微光缩写的多次会议，并组织并主持了关于美国物理社会的指导自组装（DSA）和嵌段共聚物会议。作为一名讲师，他在美国，欧洲和亚洲的多个地区的光刻和抗反射剂涂料上给了全日制教程。他还帮助建立了下一代创新者，负责招聘和指导40多名科学家，目前正在积极积极，为光学界有益贡献的科学和材料。

Trefonas的长期成员，Trefonas也为社会提供了重大的服务。他在SPIE的诉讼程序中发表了41篇论文，并发表了论文微/纳米光刻，MEMS和MOEMS杂志。目前，他是对的SPIE期刊光刻材料论文的审稿人。

Trefonas的工作得到了认可与许多著名的荣誉和奖励。其中有化工珀金奖章协会在化学工业的贡献，化学奖的美国化学学会英雄有机快等离子体刻蚀antireflectants的C.格兰特威尔逊奖在SPIE先进光刻技术，罗门哈斯技术最好的口腔纸奖antireflectants和248nm的抗蚀剂，希普利R＆d创新奖i线光刻胶，并在创新创意孟山都公司防爆暗箱奖。他最近还当选为美国国家工程院院士。

Trefonas将于本月晚些时候在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography会议上被认可为新的SPIE Fellow。