杜邦电子和成像的Peter Trefonas融入国家工程学院

认可是工程学的最高专业荣誉;认可对多代微电子的开创性贡献

马尔堡,质量。- 2018年10月4日

Dowdupont专业产品部门的杜邦电子和成像，今天宣布，Peter Trefonas，Ph.D.，Clorate Clower，一直融入国家工程学院（NAE）。

Trefonas是今年提名给学院的83名新成员和16名外国成员之一。The newly elected class was inducted on Sept. 30 in a formal ceremony at the NAE Annual Meeting in Washington, D.C.

学院认识到为“工程研究，实践或教育的创造重大贡献的工程师;开拓新的和开发技术领域;在传统的工程领域作出重大进展;或者发展和/或实施创新的工程教育方法。”在光致抗蚀剂材料和微光学方法中认识到Trefonas以其显着的发明，包括支撑多一代半导体制造方法的微光学方法。

“我真的很欣赏我向学院提名我的同行，并荣幸加入了这一成就小组的行列，”Trefonas说。“我还感谢我在我的大部分研究中合作的同事，因为他们对学院认可的工作大大贡献。”

Trefonas在微电子工业中的职业生涯一直是许多能够使半导体制造的发明的基础。他目前拥有88个美国专利，与平版材料和方法，抗反射涂层，嵌段共聚物，显示器，染料，OLED，光子和纳米材料相关。

Trefonas是一名公认的作家和演讲家，曾于2014年获得美国化学学会化学英雄奖，并于2016年获得化学工业学会Perkin奖章。2018年早些时候，他是一位SPIE的成员，国际光学和光子学会社会。

“Trefonas的成就和由他的研究产生的创新数量对我们的业务和客户留下了令人难以置信的影响，”杜邦电子及成像董事凯莉马克州凯蒂马克表示。“他不断激发我们的研发和工程团队，开发新的解决方案，以解决行业挑战，考虑新的可能性。我们祝贺他这一突出的认可。”

在半导体光刻的众多成就中，Trefonas帮助将第一个i线光刻胶产品和安全溶剂光刻胶产品引入市场，并领导了193nm和248nm光刻胶配方以及有机底部防反射剂涂层配方的项目。

Peter Trefonas，Ph.D.被融入国家工程学院（NAE）Peter Trefonas，Ph.D.被融入国家工程学院（NAE）Peter Trefonas，Ph.D.，Dowdupont专业产品部门，Dowdupont Electronicty产品部门，在9月30日举行的仪式中，在国家工程学院（NAE）中举行。, 2018, at the NAE Annual Meeting in Washington, D.C. Pictured above (L to R) are NAE Chair Gordon R. England; Peter Trefonas; and NAE President C. D. Mote, Jr., Ph.D. (Photograph courtesy of NAE.)

关于杜邦电子和成像

借助2017年陶笛和杜邦的合并，陶氏电子材料和杜邦电子与通信使其投资组合和专业知识结合在一起，以创建新的杜邦电子和成像业务，这是Dowdupont新专业产品部门的一部分。杜邦电子＆映像是一家全球材料和技术供应商，服务于半导体，先进的芯片包装，电路板，电子和工业整理，光伏，展示和数字和柔性版印刷行业。从全球先进的技术中心来看，有才华的研究科学家和应用专家团队与客户密切合作，提供解决方案，产品和技术服务，以实现下一代技术。可以找到有关杜邦电子和成像的更多信息www.lufeng-fst.com/electronic-solutions.html.。

关于陶氏杜邦特种产品部

Dowdupont专业产品是Dowdupont（纽约证券交易所股票代码）的专业产品，是一个全球创新领导者，具有技术为基础的材料，配料和解决方案，可帮助改变行业和日常生活。我们的员工采用多样化的科学和专业知识，以帮助客户推进最佳创意，并在包括电子，运输，建筑和建筑，健康和健康，食品和工人安全的主要市场中提供基本创新。Dowdupont打算将该专业部门分开，将杜邦称为独立公开交易公司。更多信息可以找到www.dow-dupont.com.。

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