电子解决方案
半导体制造和封装材料
Dupont设计了微光学材料，以改善现有的微光刻工艺以及支持先进的图案化工艺。我们在光刻技术中的悠久历史包括许多行业 - 首先实现技术创新。我们在我们的广度上领导市场，包括ARF光致抗蚀剂，KRF光致抗蚀剂，I / G线光致抗蚀剂和有机底部抗反射涂层（BARC）材料。
通过与您合作，了解您的技术挑战，我们开发材料解决方案来满足这些挑战。工艺越先进，合作设计特定材料就越关键。
杜邦在这里为您提供最大的支持（最小）光刻技术的挑战!
微光刻是一种成像技术，对半导体制造中的蚀刻步骤至关重要。它用于将电路图形从掩模转移到硅片上，然后蚀刻过程完成图形
在无处不在的高性能、低功耗计算需求的驱动下，半导体制造业继续缩小特性尺寸，以制造更快、更小、存储容量更高的晶体管。这就需要高质量、高性能的光刻材料。
杜邦的强大，生产经过验证的光致致抗蚀剂产品系列提供了满足几代光刻工艺要求的材料选项。
与光刻胶结合使用，杜邦的高级大衣材料可以防止缺陷，改善光刻工艺窗口，使特征图案更精细。
通过加宽和改善工艺和反射率窗口，防反射涂层和子层提高光刻的有效性。
杜邦的根源在其生产验证的辅助光刻产品系列中涌现。从开发人员，去除剂和其他增强化学品，我们支持总光刻解决方案。
DUV和193NM光致抗蚀剂性能从聚合物开始，杜邦电子级聚合物继续改善现有的聚合物制造，分离和评价技术。
我们提供缺陷测试或图案化晶片等服务
我们喜欢谈论我们的电子解决方案如何建立业务，使产品商业化，并解决我们这个时代更大的挑战。
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