半导体制造和包装材料

半导体包装材料

跨越光谱的半导体封装材料

广泛的材料组合,适用于所有类型的先进半导体封装

拥有超过50年的技术发展经验,杜邦电子与成像了解市场需求,并为一系列技术领域开发了广泛的半导体封装材料组合。

我们从公司的其他地区绘制,以利用整个电子制造供应链的专业知识。

通过与前沿制造商的密切关系,我们开发新材料,以满足更改的要求,从普通芯片技术等扇出晶圆级包装和硅通孔(TSVS)等新兴技术等倒装芯片技术。我们是用于底布支撑金属化(UBM),铜再分配层(RDL),Cu支柱和焊料凸块的电镀材料的技术领导者以及用于RDL的聚合物和电介质。其他先进材料包括光致抗蚀剂和TSV填充物。

选择杜邦作为您的材料解决方案合作伙伴:

  • 获得一个完整的解决方案,而不仅仅是材料
  • 从电子和成像中挖掘多年的专业知识和技术
  • 受益于领先于行业趋势的发展

产品的家庭

  • 镀铜柱
  • 铜再分配层
  • 焊料碰盖
  • 撞下金属化
  • 碰盖光致抗蚀剂
  • 通过铜通过铜
  • 包装电介质
  • 半导体包装材料是一类电子解决方案,用于形成IC芯片连接到封装基板,另一个包装或直接到印刷电路板。这些材料对半导体晶片级包装工艺,异构集成和3D集成技术至关重要。

  • 今天的尖端电子产品预计将以更小的尺寸,使用更少的能源,拥有更多的功能,同时提高性能和可靠性。这些设备为移动设备、高性能计算机、物联网、内存、汽车电子、未来的5G网络等提供动力。亚搏体育登入网他们依赖的半导体封装材料遵循异构集成路线图(HIR),并被设计来满足这些严格的要求。

半导体包装材料

  • 铜再分配层

    铜再分配层

    用于再分配层的杜邦电子和成像铜化学物质(RDL)非常适合今天对晶圆级包装应用的高密度要求。

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  • 镀铜柱

    镀铜柱

    我们的生产经过验证的Cu Parkar配方与我们的凹凸不可金属化(UBM)和锡银封盖化学物质完美和谐,为所有CU支柱需求提供无缝解决方案。

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  • 焊料碰盖

    焊料碰盖

    杜邦的获奖型焊接™BP电镀化学物质是锡铅合金的可靠替代品,适用于所有晶圆撞击应用。

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    • Solderon™BP 1000铟化学

    铟电镀化学设计用于低温焊接工艺,用于高级晶片级包装,用于对温度敏感的新兴应用。

    • Solderon™BP TS 6000锡镀银化学

    HVM-经过验证的锡镀锡化学,用于无铅,精细焊接凸块应用,具有行业领先的过程多功能性。
  • 撞下金属化

    撞下金属化

    我们提供生产的经过生产验证的电镀镍化学,以满足各种UBM流程需求

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  • 碰盖光致抗蚀剂

    碰盖光致抗蚀剂

    Dupont提供正面和负色调的光刻师,旨在满足当今半导体高级包装应用的紧凑和各种地形。

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    晶圆级包装干膜光致抗蚀剂溶液3DIC,风扇输出,凸起,铜柱和再分配应用。

    杜邦公司提供液体凹凸电镀光刻胶,以及相关的辅助材料,非常适合使用单旋涂层的晶圆级封装应用。
  • 通过铜通过铜

    通过铜通过铜

    多年电镀大马士革铜的经验和成功帮助杜邦将领先的铜TSV化学带到先进的包装市场。

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  • 包装电介质

    包装电介质

    杜邦用于包装介质配方,该介质配方具有机械性能,高分辨率,低温固化,易于处理,以及保护高级WLP所需的优异可靠性。