用于晶圆级包装的生产证明电镀化学物质

Dupont Electronics和Imaging的屡获殊荣的Solderon™BP电镀化学物质是对所有晶圆凸块应用的可靠替代品,从标准C4焊料凸块覆盖细间距Cuμpillars。

我们的无铅单步电镀材料专为最具挑战性的先进晶圆级包装应用而设计。各种配方包括锡 - 银合金,纯锡和铟材料,符合一系列过程温度和熔点,适用高温和低温处理需求。旨在克服客户最困难的挑战,如空缺和吞吐量,焊接™产品特征:

  • 高速电镀能力
  • 良好的表面形态学
  • 优异的厚度均匀性
  • 一个宽的过程窗口

杜邦电子和成像通过提供具有低α-粒子发射版本的产品,这是我们产品的锡,这是对这些排放效果敏感的包装应用的理想选择。

  • 焊料凸块在芯片及其基板之间形成电子互连。在晶片级包装过程中,凸起范围尺寸和标准C4凸块的形状,在Cu柱和μpillars上焊接帽。

  • 焊料凸块在芯片及其基板之间形成电子互连。在晶片级包装过程中,凸起范围尺寸和标准C4凸块的形状,在Cu柱和μpillars上焊接帽。

  • 杜邦为半导体行业提供完整的包装和装配材料组合。点击这里查看我们综合产品的短视频。

半导体包装材料

  • 焊料碰盖

    焊料碰盖

    杜邦的获奖型焊接™BP电镀化学物质是锡铅合金的可靠替代品,适用于所有晶圆撞击应用。

    铟电镀化学设计用于低温焊接工艺,用于高级晶片级包装,用于对温度敏感的新兴应用。

    HVM-经过验证的锡镀锡化学,用于无铅,精细焊接凸块应用,具有行业领先的过程多功能性。
  • 铜柱电镀

    铜柱电镀

    我们的生产经过验证的Cu Parkar配方与我们的凹凸不可金属化(UBM)和锡银封盖化学物质完美和谐,为所有CU支柱需求提供无缝解决方案。

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  • 铜再分配层

    铜再分配层

    用于再分配层的杜邦电子和成像铜化学物质(RDL)非常适合今天对晶圆级包装应用的高密度要求。

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  • 在凹凸金属化下

    在凹凸金属化下

    我们提供生产的经过生产验证的电镀镍化学,以满足各种UBM流程需求

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  • 碰盖光致抗蚀剂

    碰盖光致抗蚀剂

    Dupont提供正面和负色调的光刻师,旨在满足当今半导体高级包装应用的紧凑和各种地形。

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    晶圆级包装干膜光致抗蚀剂溶液3DIC,风扇输出,凸起,铜柱和再分配应用。

    Dupont提供液体凸块电镀光致抗蚀剂,以及相关的辅助物,其非常适合使用单自旋涂层的晶圆级包装应用。
  • 通过铜通过铜

    通过铜通过铜

    电镀镶嵌铜的多年经验和成功有助于杜邦将前沿铜TSV化学物质带到先进的包装市场。

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  • 包装电介质

    包装电介质

    杜邦用于包装介质配方,该介质配方具有机械性能,高分辨率,低温固化,易于处理,以及保护高级WLP所需的优异可靠性。

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