经过生产验证的镀镍化学

杜邦电子与成像公司提供一种经过生产验证的镀镍化学产品,是凹凸不平金属化(UBM)的理想选择。该产品是为了满足客户对均匀沉积、优异的屏障能力、可焊性和其他特性的广泛需求而制定的,这些特性对一致的晶圆制造至关重要。

产品:

  • Nikal英国石油化学
  • 凹凸金属化(UBM)是一种先进的封装工艺,涉及在倒装芯片封装的集成电路(IC)或铜柱和焊接凸点之间创建一个薄膜金属层堆栈。对于包的可靠性至关重要,栈有3个目的:

    • 它形成了模具和凸起之间的电气连接
    • 它是消除有害扩散的屏障
    • 它创造了碰撞和碰撞垫之间的机械连接
  • 杜邦为半导体行业提供完整的封装和组装材料组合。点击这里观看我们全面产品的短视频。

半导体封装材料

  • 撞下金属化

    撞下金属化

    我们提供经过生产验证的电镀镍化学,以满足各种UBM工艺的需要

  • 镀铜柱

    镀铜柱

    我们经过生产验证的铜柱配方与我们的凹凸金属化(UBM)和锡银覆盖化学剂完美配合,为您的所有铜柱需求提供无缝解决方案。

    查看详细信息
  • 撞击焊镀

    撞击焊镀

    杜邦屡获殊荣的Solderon™BP电镀化学品是锡铅合金的可靠替代品,适用于所有晶圆碰撞应用。

    查看详细信息

    铟电镀化学专为低温焊料电镀工艺设计,用于先进的晶圆级封装,对温度敏感。

    hvm验证的锡银电镀化学无铅,细间距焊料凸点应用,具有行业领先的工艺多功能性。
  • 铜层重新分配

    铜层重新分配

    杜邦电子与成像铜化学再分布层(RDLs)非常适合今天对晶圆级封装应用的高密度要求。

    查看详细信息
  • 撞镀光阻

    撞镀光阻

    杜邦公司提供正色调和负色调光刻胶,以满足当今半导体先进封装应用中紧凑的间距和多变的地形。

    查看详细信息

    圆片级封装干膜光刻胶解决方案,适用于3DIC、扇出、碰撞、铜柱和再分布应用。

    杜邦公司提供液体凹凸电镀光刻胶,以及相关的辅助材料,非常适合使用单旋涂层的晶圆级封装应用。
  • 通过硅通过铜

    通过硅通过铜

    多年电镀大马士革铜的经验和成功帮助杜邦将领先的铜TSV化学带到先进的包装市场。

    查看详细信息
  • 包装电介质

    包装电介质

    杜邦的包装介质配方具有机械性能、高分辨率、低温固化、易于处理和卓越的可靠性,可以保护您的先进WLP。

    查看详细信息