杜邦研究员融入2018年全国工程课程
文章|10月10日10月
杜邦的电子和成像业务的企业研究员彼得铁索斯被认可，以其在光致抗蚀剂材料和微光学方法中的显着发明，使得在多一代半导体制造过程中的光学制造方法。
Pete was inducted into the National Academy of Engineering (NAE) on Sept. 30, 2018. The newly elected class was inducted at a formal ceremony during the NAE Annual Meeting in Washington, D.C. Pete is one of 83 new members and 16 foreign members nominated by their peers to be elected to the Academy this year, known as the highest professional engineering distinction.
学院认识到为“工程研究，实践或教育的创造重大贡献的工程师;开拓新的和开发技术领域;在传统的工程领域作出重大进展;或者发展和/或实施创新的工程教育方法。”在光致抗蚀剂材料和微光学方法中被认识到了Pete的显着发明，该方法是在多一代半导体制造工艺的基础上。
“我真的欣赏我向学院提出我的同行，并很荣幸加入这个完成的小组的行列。我也感谢我的同事与我在我的大部分研究中合作，因为他们大大贡献了学术所承认的工作。“
Peter Trefonas，杜邦研究员，电子和成像
Pete在微电子行业的职业生涯一直是许多能够使半导体制造的发明的基础。他目前拥有88个美国专利，与平版材料和方法，抗反射涂层，嵌段共聚物，显示器，染料，OLED，光子和纳米材料相关。
公认的作者和发言人，Pete是2014年美国化学学会的化学奖，以及2016年的化学工业学会。2018年早些时候，他被评为国际社会的席位，光学和光子学。
“皮特的成就和他的研究产生的创新数量对我们的企业和客户留下了令人难以置信的影响，”全球研发主任，电子兼成像师Cathie Markham说。“他不断激发我们的研发和工程团队，开发新的解决方案，以解决行业挑战，考虑新的可能性。我们祝贺他这一突出的认可。”
在他在半导体光刻中的许多成就中，Pete帮助将第一I-Line光致抗蚀剂产品和安全溶剂光致抗蚀剂产品和安全溶剂的光致抗蚀剂产品和248Nm光致抗蚀剂制剂中的LED项目以及有机底部抗反射剂涂料制剂。
