AR™10L底部防反射涂层

AR™10L是一种有机，热交联底部抗反射剂涂层(BARC) 248 nm (KrF)光刻胶。它的设计是为高低温抵抗平台提供一个通用的抗反射表面，并提供卓越的兼容性与大多数ESCAP混合和缩醛抵抗。AR™10L是一种保形的1分钟248 nm抗反射剂，通常用于400-1200A范围内的反射衬底上的透明薄膜。

特性

• 近似光密度= 9 abs /嗯
• 保形涂层
• 普遍抵制兼容性
• 第一MIN膜厚度= 600A在反射电介质上
• 可与普通旋涂、EBR溶剂配套使用
• 快速蚀刻速率，通常比DUV系列光致抗蚀剂快30-40％

图2:398 nm SL4000在60 nm AR™10L快速蚀刻

图4：AR™10L快速蚀刻反射率曲线