抗反射剂和功能子层

应收账™ 201有机间隙填充材料

应收账™ 201有机间隙填充材料

应收账™ 201是一种有机间隙填充材料。它可以填充极窄的沟槽而无空隙,为具有FinFET结构的先进器件提供了一个极好的解决方案。应收账™ 201还可以用作抗反射剂,并降低KrF和ArF工艺的反射率。

特征

  • 超数值孔径(NA)曝光的最佳n&k值
  • 腐蚀率高
  • 与抗蚀剂相容性好
  • 优异的涂层性能
  • 良好的EBR/RRC溶剂相容性

利益

  • 提高临界尺寸均匀性(CDU)
  • 提高光刻工艺的利润率
  • 提高蚀刻工艺余量

图1:高宽高比下的空隙填充

传统的SOC

基于“增大化现实”技术™201

图2:出色的间隙填充和平面化

图3:AR™201光刻性能在200 nm 1:1 L/S