光致抗蚀剂

ARF植入物抵抗

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ARF植入物抵抗

杜邦的正音193nm（ARF）植入物光致抗蚀剂通过俯仰和优异的基底相容性具有良好的型材。

特征

130 nm 1：2沟槽
130 nm iso沟槽
130 nm 1：2线和空间
130 nm iso线

好处

改善了暗田偏见
优秀的过程窗口性能
通过音高良好的档案
优异的基底兼容性

130 nm 1：2沟槽

130 nm iso沟槽

130 nm 1：2 l / s

130 nm iso线

图1：150nm，120°C / 30s HMD，环形0.75NA，0.5 / 0.25，SB / PEB = 100°C / 120℃

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