电子解决方案
EKC光刻胶和残留去除剂
清洁后处理是专为在蚀刻残留物或光刻胶去除后和去离子水冲洗步骤之前使用而制定的。杜邦的后清洁处理是我们EKC技术组合的一部分。
EKC4000™PCT清洁后处理
EKC4000™PCT是一种经济有效的替代品，优于传统的“冲洗”化学物质，如IPA和NMP。它能快速有效地消除先前湿清洗过程中化学物质的拖出(转移)对晶圆表面造成的腐蚀。EKC4000™PCT与自动化设备兼容，并满足先进晶圆处理的ULSI级规格。
清洁后处理是专为在蚀刻残留物或光刻胶去除后和去离子水冲洗步骤之前使用而制定的。
配制的水和半水有机混合物，有效地去除通过，聚和金属蚀刻过程后基材表面的残留物。
用于cmp后清洗的水配方旨在保护平面化的金属和介质，防止金属腐蚀，同时提供光滑无缺陷的晶圆表面。
可去除正色调和负色调光刻胶以及等离子体硬化残留物，并可与形成LED触点所需的各种金属兼容。
优化配方，有效去除用于TSV掩模和通过焊料电镀或模板印刷的晶圆碰撞的厚和薄电阻。
特殊配制的有机材料，可去除基材表面的正负光刻胶
我们喜欢谈论我们的电子解决方案如何建立业务，使产品商业化，并解决我们这个时代更大的挑战。
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