Politex™CMP抛光垫

用于化学机械平面化(CMP)的Politex™垫系列用于铜屏障,抛光和清洁应用。Politex™垫是行业标准软垫。

  • 好处:

    • 用于多种应用的行业标准软垫
    • 不需要任何条件

    应用程序

    • 铜屏障,buff
其他CMP应用程序

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